单层胶剥离工艺及其应用

作者：李淑琴

来源：半导体技术, 1988, (02): 24-26+23.

DOI：10.13290/j.cnki.bdtjs.1988.02.009

• 剥离工艺
• 隧道结
• 紫外曝光
• 光刻胶

本文主要叙述了单层胶剥离工艺及其原理,并对这项技术的关键问题进行了分析.文章还报导了剥离技术在Pb合金约瑟夫逊隧道结中的应用及I-V特性测试结果.其整个工艺过程均使用国产光刻胶和普通紫外曝光设备.

• 出版日期1988
• 单位中国科学院电子学研究所