新型抛光垫沟槽及其在化学机械抛光中的作用研究进展

作者：方照蕊; 魏昕; 杨向东; 邹微波

来源：金刚石与磨料磨具工程, 2012, (02): 77-81.

DOI：10.13394/j.cnki.jgszz.2012.02.019

• 化学机械抛光
• 抛光垫
• 表面沟槽 chemical mechanical polishing
• polishing pad
• surface groove

化学机械抛光过程中,抛光垫性能是影响抛光质量和抛光效率的重要因素之一,而抛光垫的性能又受其表面沟槽结构形状的影响。在介绍几种常见抛光垫沟槽结构形状的特性及其作用研究的基础上,介绍了新型抛光垫沟槽的研究进展,总结了几种新型抛光垫沟槽对抛光效果的影响,为抛光垫沟槽特性的进一步研究提供参考。

• 出版日期2012
• 单位广东工业大学