采用准分子激光退火的室温沉积ITiO薄膜的性能研究

摘要

采用室温磁控溅射的方法在玻璃衬底上沉积掺Ti氧化铟薄膜,并在真空中采用XeCl准分子激光进行退火,样品的光学、电学性能、相结构分别采用分光光度计、霍尔效应测试仪和X射线衍射仪进行测试。结果表明,功率为100~150mJ/cm2的准分子激光照射可以使薄膜由无定形态转变为结晶态,激活所掺杂的Ti原子,降低薄膜的电阻率;增大退火功率还可以进一步降低载流子浓度,提高薄膜的透过率。经150mJ/cm2准分子激光退火的掺Ti氧化铟薄膜,其电阻率为6.93×10-4Ω·cm,透过率达到了88.4%。

关键词