低压电化学合成类金刚石薄膜研究

作者：朱其豹; 相炳坤; 李文帅; 杨也; 孟兆升; 王信智

来源：机械制造与自动化, 2013, (06): 58-60.

DOI：10.19344/j.cnki.issn1671-5276.2013.06.017

• 类金刚石薄膜
• 电化学沉积
• SEM
• Raman光谱 diamond-like carbon(DLC) film
• electrochemical deposition
• sem
• raman spectroscopy

采用液相电化学沉积方法,以乙醇为碳源,并加入含有KCI的去离子水溶液,在较低电压下(60 V以下),在铜基底上沉积出类金刚石(DLC)薄膜。用SEM表征薄膜表面形貌,用Raman光谱表征薄膜成份结构。结盟表明,少量KCI的加入,能够大幅降低沉积电压并提高DLC的沉积速率;沉积出的类金刚石膜均为连续,有较低的表面粗糙度;SP3碳键含量较高(约为30%)。

• 出版日期2013
• 单位南京航空航天大学