掺Yb相移光纤光栅形成过程的分析

作者：陈嘉琳; 陈柏; 乔启全; 范薇; 李学春; 陈兰荣; 薛绍林; 林尊琪; 文双春

来源：中国激光, 2003, (06): 541-544.

• 光电子学
• 掺Yb
• 相移光纤光栅
• 二次曝光法
• 次峰 optoelectronics
• Yb doped phase shifted
• double exposure method
• weak peak

研究了用二次曝光法制作掺Yb相移光纤光栅的实验过程 ,并对相移光纤光栅制作过程中出现次峰的情况进行了理论分析。合理地解释了该现象

• 出版日期2003
• 单位中国科学院上海光学精密机械研究所; 湖南大学