分子印迹-化学发光法测定甲基对硫磷

作者:刘婷婷; 刘佳莉; 蔡腊梅; 曾刘艺; 胡桂林; 张罗一览; 向辉; 郑红
来源:分析仪器, 2015, (01): 35-37.

摘要

以甲基对硫磷为模板分子,采用原位逐步聚合法制备了甲基对硫磷分子印迹聚合物,利用高锰酸钾-甲醛-甲基对硫磷化学发光体系,建立了测定甲基对硫磷高选择性的分子印迹-化学发光分析方法。方法的线性范围为2.0×10-65.0×10-6mol/L,检出限为2×10-7mol/L,对1.0×10-6mol/L甲基对硫磷溶液进行11次平行测定,相对标准偏差为3.3%。此法已用于谷物中甲基对硫磷的测定,结果满意。