DY－5型亚微米电子束曝光机多座标系重合的调校技术

作者：武丰煜; 唐文剑; 张福安

来源：电工电能新技术, 1994, (04): 31-36.

• 电子束曝光机
• 微电子束 electron beam exposure machine
• micro-electron beam

在电子束曝光机中，工件传动台、电磁偏转场及标记三者相对应的座标轴是否重合，是影响图形拼接精度的重要因素之一。本文概要地介绍了调校三座标系相互重合的方法，并给出了ＤＹ－５型亚微米电子束曝光机调校结果。

• 出版日期1994
• 单位中国科学院电工研究所