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摘要
本发明公开了一种可在线/原位监测的微波等离子体化学气相沉积设备,在进行薄膜材料生长的过程中,采用光谱检测装置对等离子辉光的发射光谱以及薄膜材料的生长温度等信息进行监测和分析,并采用X射线检测技术,对材料生长过程中的表面状态及晶体质量的演变进行实时把控和分析。采用质谱检测技术对气源及腔体生长环境中的气体组分进行分析,动态监测整个生长过程中气源组分及腔体生长环境的变化,结合光谱与X射线的监测结果,能够为掌握整个MPCVD生长过程中薄膜材料生长的演变规律,确定缺陷的产生与生长条件及环境之间的关联性提供决定性的证据,进而能够为薄膜生长质量的控制以及生长环境洁净度的提高提供更为有力的技术支撑。
- 出版日期2020-4-9
- 单位武汉大学
