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Microneedle array and mask compensation based on X-ray lithography
作者:Chen, Shao Jun
*
; Li, Yi Gui; Sugiyama, Susumu
来源:
Optics and Precision Engineering
, 2010, 18(2): 420-425.
Absorber
Final microstructures
Lithographic mask
Micro-fabrication technology
Microneedle arrays
Non-linear relationships
PMMA
Three-dimensional microstructures
出版日期
2010
单位
上海交通大学
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