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Nano-graphoepitaxy of semiconductors for 3D integration
作者：Crnogorac F
*
; Witte D J; Xia Q; Rajendran B; Pickard D S; Liu Z; Mehta A; Sharma S; Yasseri A; Kamins T I; Chou S Y; Pease R F W
来源：
Microelectronic Engineering
, 2007, 84(5-8): 891-894.
DOI：10.1016/j.mee.2007.01.067
Graphoepitaxy
Integrating semiconductor devices
Nanoimprint
Transient heating
出版日期
2007-5
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