离子束溅射法薄膜生长中结瘤微缺陷的生长机理

作者：张东平; 齐红基; 邵建达; 范瑞瑛; 范正修

来源：Acta Physica Sinica, 2005, (03): 1385-1389.

• 结瘤微缺陷
• 锆薄膜
• 扩散限制聚集模型

用离子束溅射法制备了锆单层薄膜 .用设计新型夹具和预置种子方法 ,对薄膜中结瘤微缺陷的生长过程进行了研究 .在高分辨率光学显微镜和扫描电子显微镜下观察发现 ,结瘤在其生长初期呈现出分形的特征 .用分子动力学和薄膜生长的扩散限制聚集模型 ,薄膜中结瘤微缺陷成核时的分形现象得到了很好的解释 .

• 出版日期2005
• 单位中国科学院大学; 中国科学院上海光学精密机械研究所