1kA高功率脉冲磁控溅射电源研制及试验研究

作者：桂刚; 田修波; 朱宗涛; 吴忠振; 巩春志; 杨士勤

来源：真空, 2011, (04): 46-50.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2011.04.009

• HPPMS
• 1000A电源研制
• 逆变
• 并联均流
• 电压过冲 HPPMS
• 1kA power supply
• inversion
• parallel current sharing
• overshoot voltage

高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)以其在真空镀膜上更大的优势而越来越受到重视,高压大电流电源是实现HPPMS的关键因素。本文研制了1000 A高功率脉冲磁控溅射电源,给出了电源框架图和主电路拓扑结构图。对脉冲部分采用仿真分析探索大模块IGBT的不均流因素,结果表明驱动一致性是影响均流的关键原因之一;分析了大电流时IGBT两端电压过冲问题,采用RCD吸收和续流回路能有效抑制电压过冲,使电压过冲在正常安全范围内。用所研制的电源进行等离子体负载实验,运行良好,为性能优异薄膜的制备奠定硬件基础。

• 出版日期2011
• 单位哈尔滨工业大学