等离子体刻蚀工艺控制模型分析

作者：王巍; 叶甜春; 吴志刚; 田益祥

来源：半导体技术, 2006, (02): 115-118.

DOI：10.3969/j.issn.1003-353X.2006.02.011

• 等离子体刻蚀
• 主因素分析法
• 神经网络法 plasma etching
• principal component analysis (PCA) neural network

讨论了主因素分析法以及神经网络法在等离予体刻蚀工艺中的应用。结果表明主元素分析法可以实现对数据的压缩,而神经网络算法则显示出比传统的统计过程控制算法更好的准确性。

• 出版日期2006
• 单位电子工程学院; 中国科学院微电子研究所; 重庆邮电学院; 电子科技大学