电化学原子层沉积研究现状及沉积体系的构建

作者：王立世; 张国庆; Marie ChristineRecord; 卜智翔; 孙力

来源：云南师范大学学报(自然科学版), 2015, (01): 35-40.

• 电化学原子层沉积
• 电化学原子层外延
• 功能薄膜
• 沉积系统 Electrochemical atomic layer deposition(EC-ALD)
• Electrochemical atomic layer epitaxy(EC-ALE)
• Functional thin films
• Deposition equipment and control method

近年来,电化学原子层沉积(Electrochemical atomic layer deposition,E-ALD)技术在制备催化、光电及热电等功能薄膜的研究和应用方面取得了较大进展.概述了E-ALD的发展历史、沉积原理、研究及应用情况,介绍了课题组研发的E-ALD系统的构成和生长过程的控制机理.

• 出版日期2015
• 单位云南师范大学; 湖北工业大学