固结磨料研磨与抛光的研究现状与展望

作者：李立明; 李茂; 朱永伟

来源：金刚石与磨料磨具工程, 2009, (05): 17-22.

DOI：10.13394/j.cnki.jgszz.2009.05.005

• 固结磨料
• 抛光垫
• 研磨
• 抛光

分析了传统游离磨料研磨抛光存在的缺点和固结磨料的研磨抛光的优点;阐述了固结磨料研磨抛光的材料去除机制以及固结磨料研磨盘抛光技术在氮化硅陶瓷加工、半导体制程中的应用;介绍了多种固结磨料研磨盘、抛光垫的制作方法;并展望了固结磨料的研磨抛光的发展趋势。

• 出版日期2009-10-15
• 单位南京航空航天大学; 郑州电力高等专科学校