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摘要
采用Ni和AI颗粒复合电沉积与后续真空退火的方法,分别于600℃和800℃退火温度下制备了两种新型细晶Ni_3Al涂层。与粗晶合金相比,经1000℃氧化20 h后,合金的氧化层发生大面积剥落,而两种涂层的氧化膜粘附性佳,其主要原因为细晶涂层内的大量晶界促进Al向氧化前沿的扩散,从而抑制了氧化膜/基体界面处"Kirkendall"孔洞的形成与长大。同时发现,800℃退火涂层氧化膜结构由外至内分别为NiO/NiAl_2O_4/Al_2O_3,而600℃退火涂层仅生成NiAl_2O_4与Al_2O_3,对该原因进行了探讨。
- 出版日期2011
- 单位中国科学院金属研究所; 哈尔滨工程大学
