Ge掺杂AlN电子和光学性质的第一性原理计算

作者:罗强; 马智炜; 蒋冠臻; 邹江峰; 邱毅
来源:计算物理, 2022, 39(05): 609-616.
DOI:10.19596/j.cnki.1001-246x.8483

摘要

基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理方法,用Ge原子分别替代纤锌矿AlN超晶胞中Al、 N原子,得到其结构、电子及光学性质。结果表明:掺杂后结构发生了明显的改变,两种方式的掺杂都使得AlN的晶格常数、体积和沿c轴方向的键长增加,且晶格常数变化满足维加德(Vegard)定理;Ge原子替换Al原子形成能为5.41 eV, Ge原子替换N原子形成能为5.58 eV,两种掺杂方式体系稳定性都低于纯AlN;掺杂并未引入磁性,前者引入施主杂质能带,且杂质能带进入价带,变为负能隙金属,后者引入受主杂质能带,禁带宽度为0.910 eV,两者均远小于本征AlN的禁带宽度4.040 eV,前者导电性显著提高,后者导电性可能提高;研究发现两种方式掺杂复折射率函数的虚部在低能区都近似不再为0,表明两种掺杂都加强了AlN材料对低频电磁波的吸收能力;前者介电函数虚部在低能区出现了新的波峰,长波吸收能力更强,后者在低能区未出现明显波峰,能量损失均减少。