羧基化碳纳米管修饰碳糊电极伏安法测定痕量铝

作者：李俊华; 邝代治; 冯泳兰; 曾荣英; 屈景年

来源：冶金分析, 2010, (09): 18-22.

DOI：10.13228/j.issn.1000-7571.2010.09.013

• 碳糊电极
• 阳极吸附伏安法
• 铝
• 铬蓝黑R carbon paste electrode
• anodic adsorption voltammetry
• aluminum
• eriochrome blue black R

以羧基化多壁碳纳米管(c-MWCNT)修饰的碳糊电极为工作电极,建立了一种无汞测定痕量铝的新方法。在0.1 mol/L的HAc-NaAc电解液(pH5.2)中,铬蓝黑R(EBBR)在羧基化多壁碳纳米管修饰碳糊电极表面上进行阳极扫描时出现4个溶出峰,其峰电位分别为12mV、130 mV、390 mV、594 mV,加入Al3 后第二个波峰电流明显增加,其它峰电流基本不变。该峰属络合物吸附峰,利用该峰可以进行痕量铝的检测。当电位扫速为350 mV/s、富集时间为180 s时,峰电流与铝浓度在2.0×10-9～5.0×10-7mol/L的范围内呈良好线性关系,其相关系数为0.996,检出限可达1.0...

• 出版日期2010
• 单位衡阳师范学院