以发生了二次再结晶的高纯Al为衬底材料,采用射频磁控溅射法制备了ZnO薄膜。研究了溅射工艺及Al衬底取向对ZnO薄膜的影响,分析了Al衬底取向与ZnO薄膜织构的关系。结果显示,当溅射工艺恰当时,高纯Al衬底上可以制备出晶态ZnO薄膜,但Al衬底的取向对ZnO薄膜的结晶性具有更大的影响。Al衬底的轧面上主要为{100}面织构,沉积的ZnO薄膜主要是{0002}面织构和少量的{112—0}面织构组分。
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