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Argon plasma inductively coupled plasma reactive ion etching study for smooth sidewall thin film lithium niobate waveguide application
作者:Ulliac G; Calero V; Ndao A; Baida F I; Bernal M P
来源:
Optical Materials
, 2016, 53: 1-5.
DOI:10.1016/j.optmat.2015.12.040
出版日期
2016-3
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