射频磁控溅射制备钛酸锶钡薄膜的研究进展

作者：林泽彬; 蔡苇; 刘行冰; 宋云霞; 符春林

来源：电子元件与材料, 2012, (05): 71-75.

DOI：10.14106/j.cnki.1001-2028.2012.05.002

• 铁电薄膜
• 钛酸锶钡
• 综述
• 射频磁控溅射
• 介电性能 ferroelectric film
• barium strontium titanium
• review
• RF magnetron sputtering
• dielectric properties

综述了射频磁控溅射制备钛酸锶钡(BST)薄膜的国内外研究动态,详细阐述了溅射工艺参数(电极、溅射气压、氧分压、温度)对BST薄膜微结构和电性能的影响,提出了射频磁控溅射制备BST薄膜中亟待解决的问题。

• 出版日期2012
• 单位重庆科技学院