摘要

本发明提供一种筛选高熵合金成分的方法,包括以下步骤:S1.设计光刻胶模板的图案;S2.通过光刻技术在基板表面制作模板图案的化学掩模版;S3.使用多靶共溅射在具有设计图案的化学掩模版的基板上沉积高熵薄膜;S4.表征高熵薄膜;S5.筛选出优异性能的高熵合金成分。本发明提升材料成分设计的效率节约成本:本发明的模板图案即可根据表征手段对样品的要求来设计,灵活性较强;提高筛选的精度,减小梯度密度。