摘要

基于等效媒质理论设计了NiCr四层渐变膜系。以4∶1的NiCr合金靶材,氧气和氮气为反应气体,氩气为工作气体,用磁控反应溅射法制备蓝色NiCr系太阳能光谱选择性吸收薄膜。测试分析薄膜成分、微观结构、厚度、吸收比和发射率对薄膜性能的影响。测试结果表明两层吸收膜的吸收比大于单层吸收膜;单层吸收膜的吸收比随填充因子的增大而增大;当单层吸收膜的填充因子在两层吸收膜的填充因子之间时,两层吸收膜的发射率小于单层吸收膜;两层吸收膜的吸收比随减反射层厚度的增大先增大后减小,发射率则一直增大。为多层铜基NiCr系阳光吸收膜磁控溅射沉积制备工艺提供了理论依据。