摘要

为了防止玻化SiO2-Na2O-B2O3结合剂烧结时对立方氨化硼(cBN)的侵蚀,并实现cBN晶体与结合剂间的化学键结合,本文用DTA、XRD、SEM、EPMA等研究了Ti镀层与CBN界面在600~1200℃温度范围的界面反应过程及界面成分结构特征,讨论了镀TicBN与结合剂复合体在烧结过程中的成分结构及性能.结果表明:Ti镀层与cBN晶体在600℃以上,以反应扩散的形式发生界面反应形成TiN,800℃以上形成TiB2及TiB,这些在cBN表面外延生长的难熔化合物使Ti镀层与cBN牢固结合并阻止了结合剂中的碱性组分对cBN的侵蚀,镀TicBN晶体与结合剂则由低价的氧化钛为中介实现良好结合.