离子氮化与物理气相沉积TiN复合处理研究

作者：金犁; 潘应君

来源：工具技术, 2007, (05): 24-28.

DOI：10.16567/j.cnki.1000-7008.2007.05.007

• 等离子氮化
• TiN
• 复合处理 plasma nitriding
• TiN
• complex Processing

综述了PN+TiN复合处理的工艺、组织和性能之间的关系,重点讨论了复合处理过程中“黑色层”的形成及抑制,并探讨了氮化层对复合涂层的强化机理。

• 出版日期2007
• 单位武汉科技大学