Fe3O4外延薄膜的制备与显微结构表征

作者：高春阳; 姚婷婷; 江亦潇; 陈春林^*; 马秀良; 叶恒强

来源：电子显微学报, 2022, 41(02): 105-110.

• Fe3O4
• 薄膜制备
• 反相畴界
• 显微结构
• 透射电子显微术

本文利用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了Fe3O4{001}和{111}两种薄膜。Fe3O4{001}薄膜是在SrTiO3{001}基片上通过PLD沉积直接生长的(直接生长法),而Fe3O4{111}薄膜是通过在SrTiO3{111}基片上PLD沉积Fe2O3{0001}薄膜后，再通过高温还原反应而获得(还原法)。XRD和XPS的研究结果表明Fe3O4{001}和{111}薄膜均为高纯度的单晶薄膜。透射电镜显微结构表征的结果表明，由还原法制备的Fe3O4{111}薄膜具有较高的质量，其反相畴界密度比直接生长法制备的Fe3O4{001}薄膜降低，主要为夹角是60°或120°的{110}型反相畴界。磁光克尔效应测试的结果表明，还原法制备的Fe3O4{111}薄膜具有较小的矫顽力(530 Oe)和较大的饱和磁化强度。

• 出版日期2022
• 单位中国科学院金属研究所; 季华实验室; 中国科学技术大学