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Dip-pen nanolithography on etched InAs(100) using homogeneous and mixed ink solutions
作者:Slavin John W J; Ivanisevic Albena
*
来源:
Journal of Vacuum Science and Technology B
, 2009, 27(3): 1215-1217.
DOI:10.1116/1.3138003
contact angle
etching
hydrophobicity
III-V semiconductors
indium compounds
monolayers
nanolithography
nanopatterning
oxidation
phase separation
surface roughness
出版日期
2009-5
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