凹槽状PDMS基底上水滴的挥发及Cassie-Wenzel转变行为

作者：曾蒙蒙; 朱豫; 由吉春; 李勇进

来源：高等学校化学学报, 2015, (07): 1441-1446.

• Wenzel状态
• Cassie状态
• 转变
• 挥发
• 聚二甲基硅氧烷基底
• 水滴 Wenzel state
• Cassie state
• Evaporation
• Transition
• Polydimethylsiloxane substrate
• Sessile droplet(water)

通过在线跟踪水滴在凹槽状聚二甲基硅氧烷(PDMS)基底上的挥发行为,研究了蒸馏水的挥发规律Cassie-Wenzel转变行为.结果表明,初始阶段,水滴处于Cassie状态,且在垂直于凹槽方向(V)和平行于凹槽方向(P)上存在显著的各向异性.水滴的挥发过程依次表现出接触直径不变模式、接触角不变模式及共同减小模式,与平滑基底上水滴的挥发规律类似.在挥发过程中,发生了Cassie-Wenzel转变,转变发生的时间与PDMS基底上突起部分的面积分数(即固相率)呈现良好的线性关系.随着挥发的进行,水滴的各向异性在接触角不变模式阶段消失,即挥发导致水滴从开始的椭球缺状变为球缺状.

• 出版日期2015
• 单位杭州师范大学