Ag_3PO_4/Ni纳米薄膜降解罗丹明B的光电催化性能和反应机理

作者：李爱昌; 赵娣; 刘盼盼; 孙少敏; 刘萌

来源：中国有色金属学报, 2015, (08): 2196-2204.

DOI：10.19476/j.ysxb.1004.0609.2015.08.021

• Ag3PO4/Ni薄膜
• 阳极偏压
• 光电催化
• 罗丹明B
• 反应机理 Ag3PO4/Ni thin film
• anodic bias
• photoelectrocatalysis
• rhodamine B
• reaction mechanism

采用电化学方法制备Ag3PO4/Ni薄膜,以扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)对薄膜的表面形貌、晶相结构、光谱特性及能带结构进行表征,以罗丹明B为模拟污染物对薄膜的光电催化活性和稳定性进行测定,采用向溶液中加入活性物种捕获剂和通氮除氧方法对薄膜的光催化降解机理进行探索,并提出光电催化降解罗丹明B的反应机理。结果表明:最佳工艺下制备的Ag3PO4/Ni薄膜具有致密的层状表面结构,是由多晶纳米颗粒构成的薄膜。该薄膜具有显著的光电催化活性,在最佳阳极偏压下,光电催化罗丹明B的降解率是多孔P25 Ti O2/ITO薄膜的6.69倍;相对于未加偏压的光...

• 出版日期2015
• 单位廊坊师范学院