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摘要
<正> 消除芯片工作区中的有害杂质和缺陷,对于提高半导体器件和集成电路的性能或合格率具有非常重要的意义。国内外均在努力发展各种吸除技术。我所七室电子束退火工艺试验组开展了低能电子辐照吸除技术的探索。前已报道,我们对低频大功率管和高频小功率管芯片进行低能电子辐照取得了提高管芯合格率的初步结果。最近,我们在长沙晶体管厂的协助下进行了一批新的电子辐照吸除实验,采用改进的电子辐照方法,获得了较好的结果。
- 出版日期1985
- 单位中国电子科技集团公司第四十八研究所
<正> 消除芯片工作区中的有害杂质和缺陷,对于提高半导体器件和集成电路的性能或合格率具有非常重要的意义。国内外均在努力发展各种吸除技术。我所七室电子束退火工艺试验组开展了低能电子辐照吸除技术的探索。前已报道,我们对低频大功率管和高频小功率管芯片进行低能电子辐照取得了提高管芯合格率的初步结果。最近,我们在长沙晶体管厂的协助下进行了一批新的电子辐照吸除实验,采用改进的电子辐照方法,获得了较好的结果。
