电子束辐照制备微孔阵列聚丙烯膜的研究

作者：陈永康; 周瑞敏

来源：辐射研究与辐射工艺学报, 2007, (06): 330-335.

• 电子束辐照
• 聚丙烯膜
• 蚀刻
• 微孔阵列 Electron-beam irradiation
• Polypropylene(PP)
• Etching
• Micro-porous array

采用电子束辐照方法成功制备了微孔阵列聚丙烯(PP)膜,将微孔阵列掩膜覆盖在聚丙烯膜上,在电子束下进行辐照,然后将样品在蚀刻剂中进行蚀刻,即可得到微孔阵列聚丙烯膜,其孔径为200μm。在研究中采用XRD、GPC、DSC等仪器分别测定了不同剂量辐照的PP样品的结晶度和分子量,分析了它们可能存在的内在联系及其对蚀刻工艺的影响,并对不同方法测得的结晶度结果进行了对比;探讨了蚀刻时间、蚀刻温度、蚀刻剂浓度等因素对蚀刻结果的影响;使用电子拉力机测定了不同电子束辐照剂量PP膜的力学性能;采用电子显微镜对制备的微孔阵列聚丙烯膜图案和孔径进行了相关表征。

• 出版日期2007
• 单位上海市计量测试技术研究院; 上海大学