温梯法生长的Ti:Al2O3晶体的光谱分析

作者:章佶; 孙真荣; 王祖赓; 司继良; 王静雅; 杭寅; 徐军
来源:人工晶体学报, 2005, (04): 657-660+681.
DOI:10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2005.04.020

摘要

本文研究了不同掺Ti3+浓度对温梯法生长的Ti:Al2O3晶体吸收光谱、荧光光谱和X射线衍射光谱的影响。根据吸收光谱提出了一个色心模型。对比了样品各处420nm荧光谱,发现掺Ti3+浓度越大,该处荧光强度越弱,同时解释了420nm处荧光峰的起源。对比了样品各处720nm处的荧光谱,发现掺Ti3+浓度越大,该处荧光强度越强。X射线衍射谱(XRD)表明,衍射峰强度随掺Ti3+浓度的增大而逐渐增强。

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