大口径平面抛光机精密转台设计

作者:赵则祥; 何鑫; 于贺春; 侯晓帅; 赵惠英; 王文博
来源:机械设计, 2016, 33(12): 101-104.
DOI:10.13841/j.cnki.jxsj.2016.12.022

摘要

抛光是获得超精密表面的重要手段。在平面抛光过程中,抛光垫类型对应不同的抛光工艺参数,抛光垫的修整精度直接影响工件面形精度,转台对抛光垫的精度具有重要影响,因此,转台系统精度成为衡量一台平面抛光机床的重要技术指标。文中对适用于大口径平面抛光机的精密转台部件进行了优化设计,该转台具有高精度、高稳定性等特点。检测结果及实际应用表明,文中设计的精密数控转台能够满足大口径平面元件高精度、高效率抛光的需要。

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