摘要
针对静电放电(ESD)防护过程中ESD防护器件开启速度慢、易引起栅氧击穿或电路烧毁的问题,提出了一种可控硅(SCR)结构的ESD防护器件开启速度的优化方法。首先,基于0.35μm Bipolar-CMOS-DMOS(BCD)工艺制备了P+浮空和P+接地SCR结构器件,通过分析阱间距对P+接地SCR影响,获知当阱间距增至8.68μm时,器件开启速度快且过击穿电压低。其次,对比分析关键尺寸参数相同条件下P+接地与P+浮空SCR器件ESD防护性能,传输线脉冲测试结果表明,P+浮空比P+接地SCR开启速度更快。最后,通过进一步优化P+浮空SCR器件特征参数,器件开启速度可提高约17.70%。TCAD仿真结果证明:与P+接地SCR相比,P+浮空SCR的电流密度分布较均匀,且导通时间短,有利于提高开启速度,因此P+浮空SCR器件更适用于高速集成电路的ESD防护。
- 出版日期2018
- 单位江南大学