电弧离子镀沉积Al(Cr)-O-N扩散阻挡层的研究

作者：王启民武颖娜纪爱玲柯培玲孙超黄荣芳闻立时

来源：金属学报, 2004, (01): 83-87.

• Al-O-N
• Cr-O-N
• 扩散阻挡层
• 电弧离子镀 Al-O-N
• Cr-O-N
• diffusion barrier layer
• arc ion plating (AIP)

采用电弧离子镀方法在高温合金DSMll基材上沉积Al-O-N和Cr-O-N薄膜,研究了不同O_2,N_2流量对薄膜相结构的影响以及高温下DSMll/NiCoCrAlY,DSMll/Al-O-N/NiCoCrAlY和DSMll/Cr-O-N/NiCoCrAlY体系的元素互扩散行为。实验结果表明,Al(Cr)-O-N薄膜均为多晶膜,分别具有α-Al_2O_3+六方AlN和Cr_2O_3+CrN的相结构,随着N_2,O_2流量的改变,两相的相对含量发生变化,在1050℃下氧化100h后, Al-O-N层阻挡基体与涂层间元素互扩散的作用优于Cr-O-N层,扩散阻挡层对涂层的氧化动力学影响不大。

• 出版日期2004
• 单位中国科学院金属研究所