Nd及其与Fe,Mn共掺杂ZnO薄膜的结构与发光特性

作者：文军; 陈长乐

来源：云南大学学报(自然科学版), 2008, (06): 596-599+605.

• ZnO薄膜
• 掺杂
• 射频磁控溅射
• 结构
• 光致发光 ZnO thin film
• doped
• RF magnetron sputtering
• structure
• photoluminescence

采用射频磁控溅射技术在Si(111)衬底上制备了未掺杂ZnO薄膜和Nd及其与Fe,Mn共掺杂ZnO薄膜.通过XRD分析表明,未掺杂ZnO薄膜沿c轴择优生长,掺杂ZnO薄膜偏离了正常生长,薄膜为纳米多晶结构.应用AFM观测所有薄膜的表面形貌,掺杂使ZnO薄膜表面粗糙.室温光致发光谱显示,薄膜出现了395nm的强紫光和495 nm的弱绿光带.Nd掺杂ZnO薄膜的PL谱线峰值强度减弱,Nd与Fe,Mn共掺杂ZnO薄膜的PL谱线峰值强度增强,分析了掺杂引起PL峰强度变化的原因.

• 出版日期2008
• 单位西北工业大学; 渭南师范学院