多孔阳极氧化铝模板法交流电沉积单晶镍纳米线阵列

作者：袁新国; 彭乔

来源：材料保护, 2011, (08): 1-3+11+88.

DOI：10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2011.08.008

• 交流电沉积
• 镍纳米线
• 单晶镍
• 多孔阳极氧化铝模板 alternating current electrodeposition
• Ni nanowires
• single crystal Ni
• porous anodic aluminum oxide template

一维纳米材料在光学、电学、磁学等领域有着广阔的应用前景。采用二次阳极氧化法,结合逐级降压法制备了多孔阳极氧化铝(AAO)模板,然后在其上交流电沉积了单晶镍纳米线阵列。利用SEM,XRD,TEM等对镍纳米线阵列的形貌和结构进行了表征,探讨了沉积效果与沉积电流密度-时间曲线和稳定沉积电流密度大小之间的关系。结果表明:沉积电流-时间曲线为V形时,电流先降后升,稳定沉积电流密度较大,无法获得镍纳米线;曲线为典型的L形、稳定沉积电流密度为2 mA/cm2时,镍沉积效果很好,镍纳米线排列整齐、粗细均匀、直径与AAO模板孔径相同,并沿Ni(111)晶面择优生长。本法适合于磁性纳米件和大规模集成电路的制造。

• 出版日期2011
• 单位大连理工大学