电化学制备Ba_(1-x)Sr_xWO_4薄膜的工艺研究及分析表征

作者：毕剑; 肖定全; 高道江; 余萍; 朱建国; 陈连平; 杨祖念; 张文

来源：功能材料, 2004, (02): 225-227+230.

• Ba1-xSrxWO4薄膜
• 电化学
• XRD
• SEM
• XPS Ba_(1-x)Sr_xWO_4 thin films
• electrochemical method
• XRD
• SEM
• XPS

　采用恒电流技术直接在金属钨片上制备了白钨矿结构的Ba1-xSrxWO4晶态薄膜;讨论了电流密度、酸度、温度、电解液浓度等工艺条件对薄膜形成的影响。采用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的晶相;扫描电镜(SEM)研究了薄膜的表面形貌;X射线光电子能谱(XPS)分析了薄膜的成分与价态。研究结果表明,通过控制上述工艺条件可以控制沉积薄膜的质量;在室温附近、较低的电流密度、pH值在12～13范围内时,能够制备出结晶良好、表面均匀的Ba1-xSrxWO4固溶体薄膜。

• 出版日期2004
• 单位四川大学; 成都师范学院; 材料科学与工程学院; 四川师范大学