SOI亚微米波导光栅的设计与制作

作者：孙阳; 徐学俊; 屠晓光; 陈少武

来源：半导体光电, 2010, (01): 27-29.

DOI：10.16818/j.issn1001-5868.2010.01.006

• 亚微米光波导
• 波导表面光栅
• F-P谐振腔
• 电子束光刻
• 光子集成 sub-micrometer waveguides
• waveguide surface grating
• Fabry-Perot cavity
• electron beam lithography(EBL)
• photonic integrated circuit(PIC)

报道了SOI基亚微米小尺寸波导光栅器件的设计、制作与测试结果。提出了波导与光栅同步制作的方案,避免了套刻,节约了成本。实验中采用电子束光刻(EBL)、感应耦合等离子体(ICP)刻蚀等先进半导体工艺技术,结合图形补偿等技术手段,完成了亚微米波导光栅的制作。光栅周期为350nm,占空比16∶19。采用该光栅做反射镜,制作了法布里-珀罗(F-P)谐振腔,经测试得到了与模拟相吻合的结果,峰谷比达到11dB。

• 出版日期2010
• 单位中国科学院半导体研究所