HfO_2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅的离子束刻蚀

作者：徐向东; 刘颖; 邱克强; 刘正坤; 洪义麟; 付绍军

来源：Acta Physica Sinica, 2013, (23): 169-176.

• 光栅
• 多层介质膜
• 离子束刻蚀 diffraction grating
• multilyer dielectric film
• ion beam etching

多层介质膜光栅是高功率激光系统的关键光学元件.为了满足国内强激光系统的迫切需求,首先利用考夫曼型离子束刻蚀机开展了HfO2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅的离子束刻蚀实验研究.采用纯Ar及Ar和CHF3混合气体作为工作气体进行离子束刻蚀实验,获得了优化的离子源工作参数.结果表明,与纯Ar离子束刻蚀相比,Ar和CHF3混合气体离子束刻蚀时的HfO2/光刻胶的选择比大.HfO2的离子束刻蚀过程中再沉积效应明显,导致刻蚀光栅占宽比变大.根据刻蚀速率分布制作的掩模遮挡板可以提高刻蚀速率均匀性,及时清洗离子源和更换灯丝,可保证刻蚀工艺的重复性.利用上述技术已成功研制出多块最大尺寸为80 mm×150 mm、线...

• 出版日期2013
• 单位中国科学技术大学