摘要

采用添加不同浓度Ce2(SO4)3的工业电解液在哈林槽中进行电沉积获得阴极铜沉积层,通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)及X射线衍射仪(XRD)分析铜沉积层微观形貌、晶粒尺寸及晶面取向,通过阴极极化曲线(LSV)、循环伏安曲线(CV)及计时电流曲线(CA)研究不同浓度Ce2(SO4)3对铜沉积层电化学行为的影响。结果表明,铜沉积层有一定的取向性,在(220)择优取向程度最大,Ce2(SO4)3浓度增加,(220)择优取向程度逐渐减小。同时,在工业电解液中加入Ce2(SO4)3并不改变铜的电结晶形核机制,仍为三维瞬时形核,成核数密度增大,过电位增大。当Ce2(SO4)3的添加量为0.8 g·L-1时,阴极极化程度以及成核数密度最大,有利于晶核的形成,抑制了晶粒的长大,可以获得晶粒细小的铜沉积层。