利用离子束溅射沉积的方法在不同基片温度条件下制备了不同成分的Ti Ni贮氢薄膜 ,研究了其电化学贮氢性能。结果表明 :用离子束溅射沉积制备的Ti Ni薄膜的结构为非晶态 ,薄膜对基片的附着力较强 ,在冲放电循环 5 0次后仍为非晶态 ;在基片温度为 35 0℃时制备的薄膜的结构为晶态 ,在多次放电循环后呈现非晶化趋势 ;Ti Ni薄膜具有较高的电化学活性 ,晶化薄膜比非晶态薄膜的最大放电容量高 ,但晶化薄膜的循环稳定性差
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