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摘要
本文计算了不同折射率膜层下，非对称法布里珀罗腔模式波长随膜层厚度的变化．分析了在膜层折射率较低时，模式波长随层厚的增加反而减小的机理，并在实验中研究这种现象．利用湿法腐蚀的方法移动模式波长，补偿由生长误差引入的模式波长偏差，从而做到模式波长可控，获得高消光比的器件．同时利用湿法腐蚀方法将模式波长调整到不同位置，测量了不同模式波长位置时器件的调制特性
- 出版日期1998
- 单位中国科学院半导体研究所
本文计算了不同折射率膜层下，非对称法布里珀罗腔模式波长随膜层厚度的变化．分析了在膜层折射率较低时，模式波长随层厚的增加反而减小的机理，并在实验中研究这种现象．利用湿法腐蚀的方法移动模式波长，补偿由生长误差引入的模式波长偏差，从而做到模式波长可控，获得高消光比的器件．同时利用湿法腐蚀方法将模式波长调整到不同位置，测量了不同模式波长位置时器件的调制特性
