铜掺杂聚L-酪氨酸修饰电极同时测定尿酸、多巴胺和抗坏血酸

作者：马伟; 田相星; 孙登明

来源：分析试验室, 2011, (12): 45-50.

DOI：10.13595/j.cnki.issn1000-0720.2011.0341

• L-酪氨酸
• 尿酸
• 多巴胺
• 抗坏血酸
• 铜掺杂
• 化学修饰电极
• 同时测定 L-Tyrosine
• Uric acid
• Dopamine
• Ascorbic acid
• Copper doped
• Chemically modified electrode
• Simultaneous determination

用循环伏安法制备铜掺杂聚L-酪氨酸修饰玻碳电极,研究了尿酸、抗坏血酸和多巴胺在修饰电极上的电化学行为,建立了同时测定尿酸、抗坏血酸和多巴胺的新方法。在pH 3.0磷酸盐缓冲溶液中,扫描速率为140 mV/s,多巴胺在修饰电极上产生一对氧化还原峰,峰电位分别为0.502 V、0.370 V,尿酸和抗坏血酸分别产生一氧化峰,峰电位分别为0.653 V和0.253V。尿酸、多巴胺的氧化峰分开达0.151 V,多巴胺和抗坏血酸的氧化峰分开达0.249 V,采用循环伏安法(CV法)和示差脉冲伏安法(DPVs法),用氧化峰可同时测定尿酸、多巴胺和抗坏血酸。CV法和DPVs法同时测定的线性范围分别为:UA:...

• 出版日期2011
• 单位淮北师范大学