纳米结构Ni-TiN复合薄膜的电沉积及腐蚀行为(英文)

作者：朱旭蓓; 蔡超; 郑国渠; 张昭; 李劲风

来源：Transactions of Nonferrous Metals Society of China, 2011, (10): 2216-2224.

• Ni-TiN纳米复合薄膜
• 电沉积
• 电化学阻抗谱 Ni-TiN nanocomposite film
• electrodeposition
• electrochemical impedance spectroscopy

采用电沉积方法在黄铜基底上制备纳米结构的Ni-TiN复合薄膜。用扫描电镜(SEM)及透射电镜(TEM)对其微观结构进行表征,利用X射线衍射(XRD)分析其平均晶粒尺寸,采用极化曲线及电化学阻抗谱(EIS)研究其腐蚀行为。结果表明,电沉积的电流密度、TiN纳米粒子的浓度、搅拌速度、溶液温度及pH值对电沉积薄膜形貌的影响较大。制备的Ni-TiNi电沉积薄膜的平均晶粒尺寸约为50nm。纳米结构的Ni-TiNi电沉积薄膜的耐腐蚀性能远优于纯Ni沉积薄膜的。

• 出版日期2011
• 单位中南大学; 西安交通大学; 浙江大学; 浙江工业大学