高离化率物理气相沉积涂层的研究进展

作者：钟厉; 龙永杰

来源：表面技术, 2017, 46(06): 96-101.

DOI：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.015

• 高离化率物理气相沉积
• 膜基结合力
• 涂层特性
• 硬质涂层
• 峰值功率
• 离子能量

高离化率物理气相沉积是一种新发展起来的脉冲磁控溅射技术(HPPMS),具有溅射靶材原子高度离化与峰值功率超过平均功率等特点。它作为一种新型的离子化物理气相沉积技术,在国内外已经成为一个研究热点,其离子体特性、涂层工艺、高功率脉冲放电等备受国内外学者关注。沉积过程中,离子随着电子碰撞与电荷交换发生电离,并按照双极性扩散理论进行传递。在不同工作气压条件下,离子能量分布表现出不同的特点。在放电过程中使用高的峰值功率脉冲(超出一般沉积技术23个数量级)与低脉冲占空比(0.5%10%)实现高电离(>50%),从而表现出了优良的结合力,在控制涂层结构与降低涂层的内部压力等方面有相当大的优势。从HPPMS技术制备涂层的应用现状出发,介绍了高离化率物理气相沉积涂层的特点、优势以及在制备复合涂层和涂层界面优化等方面的研究进展。探讨了高离化率物理气相沉积涂层的未来发展趋势,对涂层的应用效果进行了分析。

• 出版日期2017
• 单位重庆交通大学