氨水浓度对化学浴沉积的Zn(O,S)薄膜形貌、结构和性能的影响

作者：刘军; 魏爱香; 招瑜; 刘俊; 庄米雪

来源：人工晶体学报, 2012, (04): 936-941.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2012.04.021

• Zn(O
• S)薄膜
• 化学水浴法
• 透射率
• 光学带隙 Zn(O
• S) thin films
• chemical bath deposition
• transmittance
• optical bandgap

采用化学浴法,以ZnSO4.7H2O和SC(NH2)2作为反应前驱物,C6H5O7Na3.2H2O作为络合剂,NH3.H2O作为辅助络合剂和缓冲剂制备Zn(O,S)薄膜。采用SEM、EDS、XPS、XRD和透射光谱分析方法,研究氨水浓度对化学浴法制备的Zn(O,S)薄膜形貌、成分、结构和光学性能的影响以及Zn(O,S)薄膜的形成机理。结果表明:Zn(O,S)薄膜是由ZnO和ZnS纳米颗粒混合组成的,ZnO具有纤锌矿结构,ZnS是以非晶相存在。随着反应溶液中氨水浓度的降低,薄膜中所包含的ZnO逐渐减少,ZnS逐渐增加,S/Zn原子比逐渐增加,透射率和光学带隙也逐渐增大。

• 出版日期2012
• 单位广东工业大学