登录
免费注册
首页
论文
论文详情
赞
收藏
引用
分享
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
Depth analysis on oxidation of Al/Si(111) thin film by X-ray photoelectron spectroscopy using synchrotron radiation (vol 54, 055202, 2015)
作者：Imamura Motoyasu
*
; Kobayashi Eiichi; Sasaki Masahiro
来源：
Japanese Journal of Applied Physics
, 2016, 55(10): 109201.
DOI：10.7567/JJAP.55.109201
出版日期
2016-10
全文
全文
访问全文
相似论文
引用论文
参考文献
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
