Sol-gel法制备Bi_(0.85)Nd_(0.15)FeO_3多铁性薄膜

作者：郭冬云; 李超; 王传彬; 沈强; 张联盟; GotoTakashi

来源：Acta Physica Sinica, 2010, (08): 5772-5776.

• sol-gel法
• Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜
• 铁电性能
• 铁磁性能 sol-gel method
• Bi0.85Nd0.15FeO3 thin film
• dielectric properties
• ferroelectric properties

利用sol-gel法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备出Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜.研究退火温度对其晶相形成的影响,发现在450℃退火时,Bi0.85Nd0.15FeO3晶相开始形成,但是结晶较差,而且存在杂相;在500—600℃退火可以获得单相Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜,退火温度升高有利于其结晶.对600℃退火的Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜的介电、铁电和电磁性能进行了测试.在测试频率为1MHz时,其介电常数和介电损耗分别为145,0.032;饱和磁化强度大约为44.8emu/cm3;剩余极化值(2Pr)大约是16.6μC/cm2.

• 出版日期2010
• 单位材料科学与工程学院; 武汉理工大学; 材料复合新技术国家重点实验室