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Advanced simulation technology for etching process design for CMOS device applications
作者：Kuboi Nobuyuki; Fukasawa Masanaga; Tatsumi Tetsuya
来源：
Japanese Journal of Applied Physics
, 2016, 55(7): 07LA02.
DOI：10.7567/JJAP.55.07LA02
出版日期
2016-7
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